WhateverLab: Unterschied zwischen den Versionen
Keine Bearbeitungszusammenfassung |
|||
Zeile 50: | Zeile 50: | ||
== Aetzen == | == Aetzen == | ||
* [[Bild:Etch doublesided template.indd.zip|Vorlage zum zweiseitigen belichten | |||
* 3 minuten belichten | * 3 minuten belichten | ||
* nur 5 sekunden entwickeln | * nur 5 sekunden entwickeln (bis sich eine dunkle schicht auf dem belichteten bereich gebildet hat) | ||
** wenn es zulange belichtet/entwickelt wurde, dann werden auch die bereiche welche eigentlich nicht geaetzt werden sollen angeknabbert | |||
** wenn es zuwenig entwickelt ist, dann stoeren lackreste beim abtragen des kupfers | |||
* dann gut abwaschen | * dann gut abwaschen | ||
* aetzen etwa 10 min (immer wieder ansehen | * aetzen etwa 10 min (wenns warm ist 40grad) aber zur sichereit immer wieder ansehen | ||
== Links == | == Links == |