WhateverLab: Unterschied zwischen den Versionen
I cnat sleep |
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* [[media:Etch doublesided template.indd.zip|Vorlage zum zweiseitigen Belichten]] | * [[media:Etch doublesided template.indd.zip|Vorlage zum zweiseitigen Belichten]] | ||
* 3 minuten belichten | * 3 minuten belichten | ||
* | * entwickeln (bis sich die dunkle schicht von dem belichteten bereich geloest hat) Wenn die platine nicht ueberbelichtet ist kann man sich beim entwickeln ruhig zeitlassen. | ||
** wenn es zulange belichtet/entwickelt wurde, dann werden auch die bereiche welche eigentlich nicht geaetzt werden sollen angeknabbert | ** wenn es zulange belichtet/entwickelt wurde, dann werden auch die bereiche welche eigentlich nicht geaetzt werden sollen angeknabbert | ||
** wenn es zuwenig entwickelt ist, dann stoeren lackreste beim abtragen des kupfers | ** wenn es zuwenig entwickelt ist, dann stoeren lackreste beim abtragen des kupfers | ||
* dann gut abwaschen | * dann gut abwaschen | ||
* aetzen etwa 10 min (wenns warm ist 40grad) aber zur sichereit immer wieder ansehen | * aetzen etwa 10 min (wenns warm ist 40grad) aber zur sichereit immer wieder ansehen und erst entfernen wenn wirklich alle kleinen kupferbruecken weggeaetzt sind. | ||
== Interessante Links == | == Interessante Links == | ||